在TFT-LCD制造工藝CVD沉積工序中使用到的工藝特氣：硅烷（S1H4），氨氣（NH3），磷化氫（PH3），笑氣（N2O），三氟化碳（NF3）等，另外參與工藝過程的還有高純氫、高純氮、高純氬、高純氧等大宗氣體。濺射工序中要用到氬氣，濺射成膜氣體是濺射的主要材料。蝕刻工序中也會用到大量的特氣，而電子特氣多是易燃易爆、劇毒的氣體，因此對氣路的材質、材料選型、施工工藝都很高。

本司從事高純特氣輸送系統的設計、施工、調試、維護。

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